![具有ICP选件的Titan刻蚀/沉积系统]()
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价格面议
- 产品简介：美国Trion Technology
反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统
Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积较小、成本低而着称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion。
批量生产用:
TITAN离子刻蚀与沉积系统:
Titan是一套用于半导体生产的十分紧凑、全自动化、带预真空室的等离子系统。
Titan具有反应离子刻蚀(RIE)配置、高密度电感耦合等离子沉积(HDICP)或等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。
刻蚀应用范围：
砷化镓、砷化铝镓、氮化镓、磷化镓、磷化铟、铝、硅化物、铬以及其他要求腐蚀性和非腐蚀性化学刻蚀的材料。...
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
2022-04-08
![美TRION Oracle III 反应离子刻蚀与沉积系统]()
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价格面议
- 产品简介：美国Trion Technology
反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统
Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积较小、成本低而着称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion。
批量生产用设备:
Oracle III反应离子刻蚀与沉积系统
由*真空传输系统(CVT)、真空盒升降机和较多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与*负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。 Oracle III是市场上较灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸)，也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。
由于Oracle III 较多可容纳四个独立的工艺室，其可以有多种不同的工艺组合，其中包括RIE/ICP (反应离子刻蚀机/电感耦合等离子)刻蚀和PECVD 沉积。多个室可以同时工作。鉴于所有工艺室均有真空负载锁，工艺运行安全且没有大气污染。...
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2022-04-08
![Minilock-phantom III具有ICP选项的离子刻蚀系统]()
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价格面议
- 产品简介：美国Trion Technology
反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统
Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积较小、成本低而着称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion。
小批量生产用设备:
沉积 (PECVD)
Minilock-Orion III是一套较**的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm，且根据电极配置，可以处理单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸)，或者多尺寸批量处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。可沉积的薄膜包括：氧化物、氮氧化物、无定形硅和碳化硅。可以使用的反应气体包括：**硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮、**基硅烷和甲烷。
该系统可选配一个三极管(Triode)或电感耦合等离子(ICP)源。其中三极管使得用户可以创建高密度等离子，从而控制薄膜应力。基片通过预真空室装入工艺室，其避免了与工艺室以及任意残余沉积副产品接触，从而提高了用户的安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下，从而保持反应室与大气隔绝。...
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2022-04-08
![Orion III 等离子增强型化学沉积系统]()
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价格面议
- 产品简介：美国Trion Technology
反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统
Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积较小、成本低而着称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion。
Trion提供升级及回收方案给现有Matrix客户。
实验室/研发/芯片失效分析用设备:
沉积
Orion III 等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统适用于单个基片、碎片或带承片盘的基片(2” - 300mm尺寸)，为实验室和试制线生产提供较**的沉积能力。Orion III系统用于非发火PECVD工艺。沉积薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物和无定形硅。工艺气体：<20% 硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧和氮。该设备可选配一个ICP或三极管(Triode)源。...
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2022-04-08
![美Associated耐压测试仪HypotMAX 7710]()
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价格面议
- 产品简介：Hipot测试仪系列HypotMAX 7710由联合研究公司制造，是一款12 kVDC Hipot测试仪，用于为电缆、电线、线束和电气元件测试提供高直流输出电压。该产品非常易于使用，并为安全有效的测试提供了各种特性。它有SmartGFI?操作,它还包括电荷LO?和斜坡嗨?系统。较后，该系统具有远程安全联锁和数控电弧检测系统。...
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2022-04-08
![Sirus T2 台面式反应离子刻蚀机]()
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价格面议
- 产品简介：Sirus T2 反应离子刻蚀机(RIE)是一套台面式等离子刻蚀系统，可用于介质以及其他要求氟基化学的薄膜刻蚀。
其占地面积小及坚固**的设计特点使其非常适用于实验室环境。它可以用于较大为 200mm 的基片及...
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2022-04-08
![德Raith电子束光刻机Raith 150 Two]()
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价格面议
- 产品简介：Raith 150 Two作为高分辨电子束曝光系统，自推出以来全球**不容忽视。该系统被广泛地用于研发和纳米技术中心，已证明了系统的24/7使用的稳定性。
Raith 150 Two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。
环境屏蔽罩*了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能*系统的正常稳定运行。
*高分辨曝光及成像
00001. 小于8nm曝光
00002. 低电压曝光及成像
00003. 系统自动化程度高
00004. 较大可处理8'样片
00005. 隔墙安装 / 热稳定性
研发及小批量生产
软硬件的高自动化程度保障了小批量生产中进行简单且可重复性的曝光工作。
Raith 150 Two 高分辨的电子光学柱结合多种探测器可实现对准标记识别和过程控制中**的灵活性。
Raith 150 Two 应用
· 75nmT型栅高电子迁移率晶体管器件
· HSQ胶上制作亚4.5nm线条
· 采用traxx长线条无写场拼接曝光模式制作延迟波导结构
· 5um厚胶上制作三维菲涅尔透镜阵列结构
· PMMA胶上制作精细的11nm线条
· PMMA胶上制作60nm周期光栅结构
RAITH150 Two 产品详情
主要应用:
· 纳米级光刻
· 高分辨成像
· 低电压电子束光刻
样品台:
· 完整的6“ 移动范围
· Z轴移动范围大
电子枪技术:
· Gemini
· 电子
· 30 kV
· Inlee二次电子探测器
· 能量选择背散射二次电子探测器（选配）
*特直写模式:
· traxx长线条无写场拼接曝光模式
· periodixx周期结构无写场拼接曝光模式...
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2022-04-08
![德Raith Voyager 新一代电子束光刻系统]()
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价格面议
- 产品简介：Raith Voyager 新一代电子束光刻系统
高速且价格合理的电子束光刻机实现**的曝光效果
对于工业界和学术界所有关注速度和高分辨的电子束曝光应用，我们**您选择VOYAGERTM这款*电子束光刻系统。
Raith非常重视这款具有吸引力的在使用寿命期间具有高性价比、新开发的、**的eWRITE体系结构。
系统的硬件和软件被一致设计为自动曝光操作，**的**图形发生器和电子光学系统优化设计并协同一致。
系统可实现8英寸样品的高速曝光。系统的稳定性是非常关键的指标，可*大面积均匀曝光。该系统外部采用环境屏蔽罩，即使在稍差的实验室环境下，仍然能确保系统具有非常好的热稳定性，提高系统对外界环境的容忍度。
*高分辨率曝光系统
00001. 从较初设计到样品制备完成，实现高速样品加工，提高产量
00002. 智能设计：设备占地面积小，且集成环境屏蔽罩
00003. **的、未来安全型系统架构
00004. *的电子束曝光系统，可实现每小时1cm2的高速曝光，高性价比
eWrite技术
Raith新推出的eWrite技术结合了*电子束光刻的光学系统和**的图形发生器设计，该技术适用于研发及批量生产的所有工作。...
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2022-04-08
![SEN 紫外光UV清洗机PM20012,UV灯EUV200US-55]()
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价格面议
- 产品简介：型号：PM20012：
采用200瓦U型管光清洗灯12灯设计
使用灯管：EUV200US-55
照射面积：600x650MM
照射距离：10.2~40MM
可处理面积：600x650MM
电 压：3项，200V
电 流：7A
功 率：1970W
冷却方法：水冷
传送带速度：可调
紫外光UV清洗原理
紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。
其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，**大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有*强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，清除物体表面的污染物。
应 用
紫外线UV光清洗技术的应用范围:
1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理;
2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂
3.**PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；
4.*高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗
5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以*大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；
6。印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是**印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。
7。大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。
8。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生
9。在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。
10。磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果好。
11。石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。
12。在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。
13。彩色滤光片生产中，光清洗后能洗净表面的有机污染物。
14。敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显着提高
15。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量*好。
16。树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。...
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
2022-04-08
![美SCS旋转涂覆机G3系列]()
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价格面议
- 产品简介：SCS 公司的 G3 系列**旋转涂敷机是一款用于实验室、研发的桌面式仪器，应用于在平面基板上**的液体材料涂敷，象光刻胶、聚酰亚胺、金属有机化合物、搀杂剂、硅质薄膜等。G3 旋转涂敷机系统在操作精度和编程灵活性方面采用了新的标准，具有很高的旋转精度和重复精度， 拥有精度*高的加速/减速控制。
G3 系列共有 G3-8, G3P-8, G3P-12 和 G3P-15 四个型号。
G3-8: G3 系列不可编程旋转涂敷机，8'旋涂盘，单一涂敷程序。
G3P-8: G3 系列可编程旋转涂敷机，8'旋涂盘，可储存 30 个涂敷程序，每个程序可以有 20 步。G3P-12: G3 系列可编程旋转涂敷机，12'旋涂盘，可储存 30 个涂敷程序，每个程序可以有 20 步。G3P-15: G3 系列可编程旋转涂敷机，15'旋涂盘，可储存 30 个涂敷程序，每个程序可以有 20 步。...
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
2022-04-08
![美国Trion去胶机 Gemini 和Apollo]()
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价格面议
- 产品简介：美国Trion Technology
反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统
Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积较小、成本低而着称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion。
批量生产用设备-去胶系统Gemini 和Apollo :
- 低损伤去胶系统
新式去胶系统的成本已攀升到不合理水平，但Trion已通过两套价格低廉、紧凑的多功能系统使这一关键问题得到解决：Gemini和Apollo。利用ICP(电感耦合等离子)、微波和射频偏置功率，可以在低温条件下将难于消除的光刻胶去除。根据应用要求，每套系统可以结合SST-Lightning 微波源(既可靠又没有任何常见的微波调谐问题) 或ICP 技术。
? 刻蚀速率高达6微米/分
? 高产量
? 等离子损伤低
? 自动匹配单元
? 适用于100mm 到300mm 基片
? 设备占地面积小
? 价格具竞争性...
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
2022-04-08
![德Zeiss Sigma SEM 电子束直写仪]()
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价格面议
- 产品简介：型号：Zeiss Sigma SEM
主要功能：
·利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（较小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等*领域。
·技术指标：
·肖特基热场发射电子源
·加速电压：100V～30kV
·放大倍率：12X～1000,000X
·SEM分辨率：1nm@30kV,1.5nm (15kV),2.8nm（1kV）
·电子束曝光：10nm（20kV）
·场拼接精度：<100nm
·扫描频率：6MHz
·图形格式：GDSII...
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
2022-04-08
![德Raith 150 Two 高分辨电子束光刻机]()
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价格面议
- 产品简介：Raith 150 Two作为高分辨电子束曝光系统，自推出以来全球**不容忽视。该系统被广泛地用于研发和纳米技术中心，已证明了系统的24/7使用的稳定性。
Raith 150 Two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。
环境屏蔽罩*了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能*系统的正常稳定运行。
*高分辨曝光及成像
00001. 小于8nm曝光
00002. 低电压曝光及成像
00003. 系统自动化程度高
00004. 较大可处理8'样片
00005. 隔墙安装 / 热稳定性
研发及小批量生产
软硬件的高自动化程度保障了小批量生产中进行简单且可重复性的曝光工作。
Raith 150 Two 高分辨的电子光学柱结合多种探测器可实现对准标记识别和过程控制中**的灵活性。...
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2022-04-08
![德国Raith EBPG5150电子束光刻机]()
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价格面议
- 产品简介：德国Raith EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。
00001. 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换
00002. 155mm的平台
00003. 较小曝光特征尺寸小于8nm
00004. 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器
00005. 在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，较大可以到1mm
00006. GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境
00007. 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求
可选的系统增强升级
EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常**、高自动化的电子束光刻系统。
EBPG5150 应用
· 电子束曝光用于制作GaAs T型器件
· 微盘谐振器
· 开口环谐振器
EBPG5150 产品详情
主要应用：
· 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构
· 高速电子束直写
· 批量生产，如化合物半导体器件
· 防伪标识
电子光学柱技术：
· EBPG
· 电子束
· 100 kV
样品台：
· 覆盖完整6英寸硅片大小
· 标配2工位自动化上料
(10工位可选)...
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
2022-04-08
![紫外线UV清洗机PM20036C]()
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价格面议
- 产品简介：PM20036C：
采用200瓦U型清洗灯36灯设计
使用灯管：EUV200US-88
照射面积：1000x1000MM
照射距离：17.5~50MM
可处理面积：1000x1000MM, 1000x3000mm
电 压：3项，200V
电 流：3A
功 率：3870W
冷却方法：水冷
传送带速度：可调
UV清洗机规格资料表:
紫外光UV清洗原理
紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。
其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，**大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有*强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，清除物体表面的污染物。
应 用
紫外线UV光清洗技术的应用范围:
1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理;
2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/环氧树脂
3.**PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；
4.*高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗
5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以*大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；
6。印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是**印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。
7。大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。
8。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生
9。在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。
10。磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果好。
11。石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。
12。在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。
13。彩色滤光片生产中，光清洗后能洗净表面的有机污染物。
14。敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显着提高
15。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量*好。...
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
2022-04-08
![日本SEN UV清洗机PL17-110 SUV110GS-36]()
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价格面议
- 产品简介：详细介绍
光源
型式 ：PL17-110
寸法：300×250×300H mm
重量：13.4 kg
使用ランプ：SUV110GS-36L×1本
照度：15mW/cm2*1
照射エリ：160×160 mm
照射距离：0～80 mm
电源
型式：UE1101N-19
寸法：160×665×150H mm
重量：12 kg
入力电源：100V 50/60Hz共通
消费电力：250W *2
型式：SB-201-M3A3
送风量：Max 2 m3/min
*1:SENの照度计(Model:25?36-3)で254nmの波长で距离30mmの条件で测定した场合です。
*2:ブロワ込の消费电力となります。
紫外光UV清洗原理
紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。
其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，**大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有*强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，清除物体表面的污染物。
应 用
紫外线UV光清洗技术的应用范围:
1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理;
2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/环氧树脂
3.**PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；
4.*高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗
5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以*大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；
6。印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是**印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。
7。大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。
8。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生
9。在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。
10。磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果好。
11。石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。
12。在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。
13。彩色滤光片生产中，光清洗后能洗净表面的有机污染物。
14。敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显着提高
15。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量*好。
16。树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。...
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
2022-04-08
![SEN 紫外光UV清洗机PM11012B]()
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价格面议
- 产品简介：详细介绍
型号：PM11012B：
采用110瓦直管型清洗灯12灯设计
使用灯管：SUV110DS-55
照射面积：650x800MM
照射距离：10.00~40MM
可处理面积：650x800MM
电 压：3项，200V
电 流：3A
功 率：1970W
冷却方法：水冷
传送带速度：可调
紫外光UV清洗原理
紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。
其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，**大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有*强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，清除物体表面的污染物。
应 用
紫外线UV光清洗技术的应用范围:
1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理;
2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/环氧树脂
3.**PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；
4.*高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗
5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以*大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；
6。印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是**印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。
7。大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。
8。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生
9。在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。
10。磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果好。
11。石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。
12。在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。
13。彩色滤光片生产中，光清洗后能洗净表面的有机污染物。
14。敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显着提高
15。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量*好。
16。树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。...
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
2022-04-08
![SEN 紫外光UV清洗机PM9018B]()
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价格面议
- 产品简介：型号：PM9018B：
采用90瓦直管型清洗灯18灯设计
使用灯管：SUV90DS-55
照射面积：900x450MM
照射距离：10~40MM
可处理面积：900x450MM
电 压：3项，200V
电 流：6A
功 率：2600W
冷却方法：水冷
传送带速度：可调
紫外光UV清洗原理
紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。
其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，**大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有*强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，清除物体表面的污染物。
应 用
紫外线UV光清洗技术的应用范围:
1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理;
2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/环氧树脂
3.**PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；
4.*高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗
5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以*大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；
6。印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是**印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。
7。大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。
8。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生
9。在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。
10。磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果好。
11。石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。
12。在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。
13。彩色滤光片生产中，光清洗后能洗净表面的有机污染物。
14。敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显着提高
15。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量*好。
16。树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性...
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
2022-04-08
![蓝星宇UV清洗机 LXYPM11020]()
-
价格面议
- 产品简介：LXYPM11020：
采用110瓦U型清洗灯20灯设计
使用灯管：SUV110US-55
照射面积：650x2600MM
照射距离：17.5~50MM
可处理面积：500x600MM, 500x610mm，500x300mm
电 压：3项，200V
电 流：2A
功 率：2670W
冷却方法：水冷
传送带速度：可调
紫外光UV清洗原理
紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。
其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，**大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有*强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，清除物体表面的污染物。
应 用
紫外线UV光清洗技术的应用范围:
1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理;
2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/环氧树脂
3.**PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；
4.*高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗
5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以*大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；
6。印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是**印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。
7。大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。
8。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生
9。在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。
10。磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果好。
11。石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。
12。在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。
13。彩色滤光片生产中，光清洗后能洗净表面的有机污染物。
14。敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显着提高
15。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量*好。
16。树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。...
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
2022-04-08
![旋转匀胶机Datenblatt LabSpin]()
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价格面议
- 产品简介：旋转匀胶机 Datenblat LabSpin:
。LabSpin 6:可达6英寸圆晶圆片，或4英寸方形衬底。
。LabSpin 8:可达8英寸圆晶圆片，或6英寸方形衬底。...
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
2022-04-08
